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实验室用水常识

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发表于 2009-6-3 15:44:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
实验室用水常识
3 t$ a3 s0 @$ ~7 ]: G5 ^! q' B0 _
水是实验室内一个常常被忽视但至关重要的试剂。实验室用水有哪些种类?能达到什么级别?不同实验对水的要求有那些?为澄清这些模糊的概念,作者阅读并记录了一些相关资料,其中绝大多数资料是从外文资料翻译过来的。; m( a( E- j7 X3 ]) K& `
实验室常见的水的种类: 6 j1 }( b" d/ C/ H9 L" y
1、蒸馏水(Distilled Water ): ) e: Q/ Z* f, r' V
实 验室最常用的一种纯水,虽设备便宜,但极其耗能和费水且速度慢,应用会逐渐减少。蒸馏水能去除自来水内大部分的污染物,但挥发性的杂质无法去除,如二氧化 碳、氨、二氧化硅以及一些有机物。新鲜的蒸馏水是无菌的,但储存后细菌易繁殖;此外,储存的容器也很讲究,若是非惰性的物质,离子和容器的塑形物质会析出造成二次污染。 # S% _% P+ H3 M! J$ T
2、去离子水(Deionized Water ): & X* y* x# \. R
应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子,但水中仍然存在可溶性的有机物,可以污染离子交换柱从而降低其功效,去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。
2 U* ]" Y# o6 X* D/ G+ `( C3、反渗水(Reverse osmosis Water):
2 o% c$ K  Z6 S) Z! \其生成的原理是水分子在压力的作用下,通过反渗透膜成为纯水,水中的杂质被反渗透膜截留排出。反渗水克服了蒸馏水和去离子水的许多缺点,利用反渗透技术可以有效的去除水中的溶解盐、胶体,细菌、病毒、细菌内毒素和大部分有机物等杂质,但不同厂家生产的反渗透膜对反渗水的质量影响很大。 * x8 D; d6 {- R) y1 ^4 h  r
4、超纯水(Ultra-pure grade water): . i% q. Y: E; I" W6 n9 K
其标准是水电阻率为18.2MΩ-cm。但超纯水在TOC、细菌、内毒素等指标方面并不相同,要根据实验的要求来确定,如细胞培养则对细菌和内毒素有要求,而HPLC则要求TOC低。 : o- |9 I  j2 W1 @9 R" P
. F( V% c) N2 D- e8 [) w

3 h" t+ W' F, F: z评价水质的常用指标: ' j' \& _4 m. [
1、电阻率(electrical resistivity):
7 N- b; E$ N# N+ \0 A4 o衡量实验室用水导电性能的指标,单位为MΩ-cm,随着水内无机离子的减少电阻加大则数值逐渐变大,实验室超纯水的标准:电阻率为18.2MΩ-cm。
$ b: ~; }0 H6 C5 G4 P2、总有机碳(Total Organic Carbon ,TOC): * H3 I" i( Q2 w2 W5 i. F6 k
水中碳的的浓度,反映水中氧化的有机化合物的含量,单位为ppm 或 ppb。 ; I6 l1 g, u/ S
3、内毒素(Endotoxin):
/ |! c- |  {3 F) n8 [& \$ n) J& F革兰氏阴性细菌的脂多糖细胞壁碎片,又称之为“热原”,单位cuf/ml。
4 Y( i9 D7 ^/ \! H( _* d
1 i8 Z9 k0 v  D7 T* U! A& n. N5 p
GB 6682-2000 中国实验室用水国家标准
+ G- J; \2 S; P
名 称

/ y$ T: Q% S7 y
一 级
5 ?) }. m1 W: X% a# j6 z% ~
二 级
: S: }& P8 F$ |+ j9 ~+ q6 s
三 级
; j  N  @$ y. }. P9 ~
PH值范围(25℃)
) o6 [/ v8 Y9 L" a/ L
-

8 r4 T* u- e/ S4 Z. u# C, j  a
-  
/ M- s* b+ l% ~; B; f5 C: r* C
5.0-7.5
) r2 s" E( C( y* V
电导率(25℃),mS/m ≤

, O! M2 q9 ~" s$ z7 L5 N% P
0.01
9 u& f0 x- }+ ?9 |% |9 F
0.10
( t2 D, k9 C$ g6 B, S+ @6 D
0.50

: {# f+ Z+ b; b- ?1 K+ F3 h; l
比电阻(MΩ.cm.25℃)≥
8 \6 n' N5 C8 l6 _
10
, d; ]' G8 I. ^+ U; Q
1
: e% _2 s# W3 _( y+ O
0.2

3 f$ d$ `. b+ o4 H) j( T1 o, ]
可氧化物质[以(0)计],mg/L
5 A9 ~8 I3 C) R# O) j8 ~$ y
-
; T/ s3 j# R, T
0.08

9 S! h# `  J# B% ~& k! I5 V
0.40
" Z& C5 _) H+ [0 m/ v5 N
< 吸光度(254nm,1cm 光程)≤

1 q. p0 G# |6 u! q' M: m9 {
0.001
8 ^) l" X1 R3 `+ `1 o2 W
0.01
6 r! Q$ ?9 l% N5 u/ A
-

! w7 O5 E" ^, J% R. i) O: S
蒸发残渣(105±2℃),mg/L≤
4 R# d, P5 b2 }* z5 Y' ?* i
-
& m+ j+ z' Y* e& Y
1.0
6 S. m$ I# B. Z  \8 }# |1 B3 `+ i& e
2.0
8 M0 \. S) @3 d/ B& q& A  S
可容性硅[以(sio2)计],mg/L<

/ o9 ?: g, i6 c
0.01
  C, |) D) y8 j6 U$ S. u2 ]" m
0.02

9 ]/ ^2 T" W: X2 q( c9 B7 t, ~* O
-

5 M% R' A8 }( X8 y* I. v

该用户从未签到

发表于 2012-3-5 10:36:34 | 显示全部楼层
我认为这是考核技术员的最基础也是最重要
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